上虞区2019学年共同体王清专帖 [复制链接]

6、在技术科学方面还有复式燃烧理论、叶轮机械三元流动理论、冷压状态方程、齿轮动态整体误差理论、非线性系统的最优控制等有影响的理论成果。

世界科技成果

微软的HoloLens全息眼镜

据微软全球执行副总裁沈向洋介绍，微软的HoloLens全息眼镜是目前世界上最先进的全息计算机，搭载了windows10的操作系统，完全独立运营

HoloLens全息眼镜拥有难以置信的计算能力，众多的传感器实时扫描进行三维建模，还有高清相机。据介绍，“戴上眼镜的用户看到实景和虚景贴合呈现，并可以操纵虚景。学生可以通过数字化全息影像学习解剖学。利用火星探测器的全息影像，科学家可以身临其境般在火星表面工作。HoloLens不仅可以呈现发动机的三维全息模型，还可以在其上叠加零部件，甚至透视内部结构。”

“鳍式晶体管”——“变平房为高楼”
美国加州大学伯克利分校教授胡正明是“鳍式晶体管”的发明人，2011年因特尔率先采用这一技术，使摩尔定律得以继续。当日会上，胡正明公布了他们今年的创新：引入硫化钼作材料，让二维半导体可以“变平房为高楼”，还可以将晶体管缩小到1纳米。胡正明说，这可能让半导体晶体管密度再增加1000倍。这意味着互联网将来的速度和普及度也还有千百倍成长的空间。可以预期，互联网不仅仅会更广，也会更“深”。

百度大脑——全面拥抱人工智能

百度大脑由三部分组成：一是超大规模的计算，一是先进的算法，另外则是海量的大数据。百度有全球目前最大的深度学习的神经网络，有万亿级的参数、千亿级的特征训练和千亿级不同的模型，以及几十万台服务器和各种不同的架构等。这些数据有搜索的、行为的、定位的、交易的，可以打造个性化的知识图谱以及商业逻辑和用户画

百度公司总裁张亚勤说，百姓生活将全面拥抱人工智能。如用手机搜索、语音识别、图像识别、翻译的各种功能都利用了人工智能技术。百度也在尝试将人工智能应用到教育和医疗领域，模拟病人和医生间对话，人工智能自身可阅读大量文献据此判断病例。无人驾驶技术也应用了人工智能，同样会融入人们的生活。

“寒武纪1A”深度神经元网络处理器

中科院计算所研究院孙凝晖带来了“寒武纪1A”深度神经元网络处理器，它具有人一样的智能。它模仿人的神经网络，计算指令不同于一般的CPU。功耗很低，功能很强大，借助它有望把阿尔法狗塞进一部手机里。从理解语言到图像搜索，许多人工智能功能都可以依赖它。

三星复合生物信号处理器

三星复合生物信号处理器是采用45纳米特殊的半导体工艺制作而成，内嵌快闪存储器。在人身上，生物处理器可以监测5种生物信号，并且转化成数据。事实上，内置电源管理系统可以从一个电池供4个不同的内置电源，这些功能集成的微型组件厚度仅有0.4mm。它可以将不同的软件或算法装载到生物处理器当中，监测5种生物信号，包括心率变化、身体成分、情绪变化、呼吸异常、体表温度等等，通过复合这5种信号从而准确了解健康状态。

光刻机

光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.

一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。

Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);

在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时"复制"到硅片上的过程。

生产集成电路的简要步骤:
利用模版去除晶圆表面的保护膜。
将晶圆浸泡在腐化剂中，失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。
用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质。
其中曝光机就是利用紫外线通过模版去除晶圆表面的保护膜的设备。

一片晶圆可以制作数十个集成电路，根据模版曝光机分为两种:
模版和晶圆大小一样，模版不动。
模版和集成电路大小一样，模版随曝光机聚焦部分移动。
其中模版随曝光机移动的方式，模版相对曝光机中心位置不变，始终利用聚焦镜头中心部分能得到更高的精度。成为的主流 。

主要厂商曝光机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握。因此曝光机价格昂贵，通常在 3 千万至 5 亿美元。

ASML
尼康
佳能
欧泰克
上海微电子装备
SUSS
ABM, Inc.

光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类:
高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML(镜头来自德国)，日本Nikon(intel曾经购买过Nikon的高端光刻机)和日本Canon三大品牌为主。

位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。

生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机，分辨率通常在数微米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以及中国品牌。

光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动

A 手动:指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了;

B 半自动:指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐

C 自动: 指的是 从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。

曝光系统最核心的部件之一是紫外光源

常见光源分为:
可见光:g线:436nm
紫外光(UV)，i线:365nm
深紫外光(DUV),KrF 准分子激光:248 nm, ArF 准分子激光:193 nm
极紫外光(EUV)，10 ~ 15 nm

对光源系统的要求
a.有适当的波长。波长越短，可曝光的特征尺寸就越小;[波长越短，就表示光刻的刀锋越锋利，刻蚀对于精度控制要求越高。]
b.有足够的能量。能量越大，曝光时间就越短;
c.曝光能量必须均匀地分布在曝光区。[一般采用光的均匀度 或者叫 不均匀度 光的平行度等概念来衡量光是否均匀分布]

常用的紫外光光源是高压弧光灯(高压汞灯)，高压汞灯有许多尖锐的光谱线，经过滤光后使用其中的g 线(436 nm)或i 线(365 nm)。

对于波长更短的深紫外光光源，可以使用准分子激光。例如KrF 准分子激光(248 nm)、ArF 准分子激光(193 nm)和F2准分子激光(157 nm)等。